《Plasma Sources Science & Technology》雜志屬于物理與天體物理領域的物理：流體與等離子體學科。
以下是對其的詳細介紹：
基本信息
創(chuàng)刊時間：1992年
出版商：IOP Publishing Ltd.
出版周期：Bimonthly
ISSN：0963-0252；E-ISSN：1361-6595
學科領域與影響力
主要學科：《Plasma Sources Science & Technology》雜志專注于物理與天體物理-PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS領域，提供物理：流體與等離子體的關鍵概念進行最新的概括介紹。
影響因子：該雜志的最新影響因子為3.3，顯示其學術水平和影響力，雖然具體數(shù)值會隨時間變化。
期刊Plasma Sources Science & Technology近年評價數(shù)據(jù)趨勢圖
期刊影響因子趨勢圖
學科分區(qū)：中科院SCI期刊分區(qū)，《Plasma Sources Science & Technology》雜志在大類學科物理與天體物理位于2區(qū)，小類學科PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS物理：流體與等離子體位于1區(qū)。期刊WOS(JCR)分區(qū)中，它位于的PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS的Q1區(qū)，顯示出其在該領域的領先地位。
期刊WOS(JCR)分區(qū)（2023-2024年最新版）
| 按JIF指標學科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q1 | 6 / 40 |
86.3% |
| 按JCI指標學科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q1 | 6 / 40 |
86.25% |
WOS(JCR)分區(qū)是由科睿唯安公司提出的一種新的期刊評價指標，分區(qū)越靠前一般代表期刊質量越好，發(fā)文難度也越高。這種分級體系有助于科研人員快速了解各個期刊的影響力和地位。JCR將所有期刊按照各個學科領域進行分類，然后以影響因子為標準平均分為四個等級：Q1、Q2、Q3和Q4區(qū)。這種設計使得科研人員可以更容易地進行跨學科比較。
為了保證期刊的質量，審稿周期預計為 約6.0個月 。在此期間，編輯部將對所有投稿進行嚴格的同行評審，以確保發(fā)表的文章具有較高的學術價值和實用性。
值得一提的是，Plasma Sources Science & Technology近期并未被列入國際期刊預警名單，這意味著其學術質量和影響力得到了廣泛認可。該期刊為物理與天體物理領域的學者提供了一個優(yōu)質的學術交流平臺。因此，關注并投稿至Plasma Sources Science & Technology無疑是一個明智的選擇，這將有助于提升您的學術聲譽和研究成果的傳播。
