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Plasma Sources Science & Technology雜志屬于什么學科領域?

《Plasma Sources Science & Technology》雜志屬于物理與天體物理領域的物理:流體與等離子體學科。

以下是對其的詳細介紹:

基本信息

創(chuàng)刊時間:1992年

出版商:IOP Publishing Ltd.

出版周期:Bimonthly

ISSN:0963-0252;E-ISSN:1361-6595

學科領域與影響力

主要學科:《Plasma Sources Science & Technology》雜志專注于物理與天體物理-PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS領域,提供物理:流體與等離子體的關鍵概念進行最新的概括介紹。

影響因子:該雜志的最新影響因子為3.3,顯示其學術水平和影響力,雖然具體數(shù)值會隨時間變化。

期刊Plasma Sources Science & Technology近年評價數(shù)據(jù)趨勢圖

期刊影響因子趨勢圖

學科分區(qū):中科院SCI期刊分區(qū),《Plasma Sources Science & Technology》雜志在大類學科物理與天體物理位于2區(qū),小類學科PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS物理:流體與等離子體位于1區(qū)。期刊WOS(JCR)分區(qū)中,它位于的PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS的Q1區(qū),顯示出其在該領域的領先地位。

期刊WOS(JCR)分區(qū)(2023-2024年最新版)

按JIF指標學科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q1 6 / 40

86.3%

按JCI指標學科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q1 6 / 40

86.25%

WOS(JCR)分區(qū)是由科睿唯安公司提出的一種新的期刊評價指標,分區(qū)越靠前一般代表期刊質量越好,發(fā)文難度也越高。這種分級體系有助于科研人員快速了解各個期刊的影響力和地位。JCR將所有期刊按照各個學科領域進行分類,然后以影響因子為標準平均分為四個等級:Q1、Q2、Q3和Q4區(qū)。這種設計使得科研人員可以更容易地進行跨學科比較。

為了保證期刊的質量,審稿周期預計為 約6.0個月 。在此期間,編輯部將對所有投稿進行嚴格的同行評審,以確保發(fā)表的文章具有較高的學術價值和實用性。

值得一提的是,Plasma Sources Science & Technology近期并未被列入國際期刊預警名單,這意味著其學術質量和影響力得到了廣泛認可。該期刊為物理與天體物理領域的學者提供了一個優(yōu)質的學術交流平臺。因此,關注并投稿至Plasma Sources Science & Technology無疑是一個明智的選擇,這將有助于提升您的學術聲譽和研究成果的傳播。

Plasma Sources Science & Technology雜志

Plasma Sources Science & Technology

出版商:IOP Publishing Ltd.

研究方向:物理-物理:流體與等離子體

中科院分區(qū):2區(qū),JCR分區(qū):Q1

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